EMC易倍网页登录入口-再开战！亿光控告日亚化侵害覆晶专利技术

本文摘要：2017年9月28日，亿光电子工业股份有限公司之中国子公司（以下总称“亿光”）向中国深圳中级人民法院明确提出专利侵权行为诉讼，起诉深圳日亚化学有限公司（日亚化）以及其经销商恒炘源侵犯亿光覆晶（flip－chip）专利技术，并拒绝法院针对侵权行为产品发布命令禁制令以及损害赔偿。

2017年9月28日，亿光电子工业股份有限公司之中国子公司（以下总称“亿光”）向中国深圳中级人民法院明确提出专利侵权行为诉讼，起诉深圳日亚化学有限公司（日亚化）以及其经销商恒炘源侵犯亿光覆晶（flip－chip）专利技术，并拒绝法院针对侵权行为产品发布命令禁制令以及损害赔偿。中国专利审核委员会已证实该专利有效地，上诉日亚化的专利违宪催促。针对日亚化1月28日于其网站公布新闻稿关于中国诉讼乙事，亿光回应认同对于法院裁决，然而诉讼程序仍在展开中，并非最后裁决，仍可裁决，亿光坚信最后将获得不利的裁决。

亿光申明：日亚化中国YAG专利ZL97196762.8月底2017年7月29日期剩过热，对本公司现有产品没什么影响。美国最高法院（SupremeCourtoftheUnitedStates）于2018年10月1日确认日亚化美国YAG专利US5,998,925与US7,531,960所主张之权利项全部违宪。

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